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阴阳离子混床交换器纯水设备典型工艺流程

2020-09-26

混床离子超纯水设备使用范围概述:

电解电容器出产铝箔及工作件的清洗 ,电子管出产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液, 显像管和阴极射线管出产配料用纯水,黑白显像管荧光屏出产玻壳清洗、沉积、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水, 液晶显示器的出产,屏面需用纯水清洗和用纯水配液,晶体管出产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制集成电路出产中高纯水清洗硅片等.

阴阳离子混床交换器纯水设备典型工艺流程

预处理体系-反渗透体系-中心水箱-粗混合床-精混合床-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-精细过滤器-用水目标 (≥18MΩ.CM)

预处理-反渗透-中心水箱-水泵-EDI设备-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-0.2或0.5μm精细过滤器-用水目标(≥18MΩ.CM)

预处理-一级反渗透-加药机(PH调理)-中心水箱-二级反渗透(正电荷反渗膜)-纯水箱-纯水泵-EDI设备-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精细过滤器-用水目标(≥17MΩ.CM)

预处理-反渗透-中心水箱-水泵-EDI设备-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精细过滤器-用水目标(≥15MΩ.CM)

处理体系-反渗透体系-中心水箱-纯水泵-粗混合床-精混合床-紫外线杀菌器-精细过滤器-用水目标(≥15MΩ.CM)

行业规范

纯化水规范,打针水规范 显像管、液晶显示器用纯水水质集成电路用纯水水质国家电子级纯水规范美国SEMI规范特色

为满足用户需要,符合出产用水规范,延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺规划上,选用国家自来水规范水为源水,再设有多介质过滤器、活性碳过滤器、钠离子软化器、精细过滤器、阻垢等预处理体系、RO反渗透主机体系、离子交换混床(EDI电除盐体系)体系等。 体系中水箱均设有液位操控体系、水泵均设有压力保护设备、在线水质监测操控仪表、电气选用PLC可编程操控器,全自动运行无须人员看守,同时在工艺选材上选用引荐和客户要求相统一的办法,使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备稳固性。

阴阳离子混床交换器设备

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